製造光罩之最後階段為黏貼pellicle之工程。
Pellicle為防止附著於mask表面之particle在wafer曝光工程中輸寫成pattern於wafer上的角色。Mask pattern上有particle時particle會focusing在wafer上，但有pellicle時，在pellicle表面附著之particle不會在wafer表面上focusing為pattern。通常使用之pellicle為1um厚之透明膜。