Develop工程是利用mask曝光部及非曝光部之resist溶解度的差異形成resist pattern的工程。Develop的方法有好幾種，但在製造光罩時，常使用利用fan nozzle或binary nozzle之spin spray或puddle dispense等方法。
在各工程需考慮develop速度及develop uniformity等來選擇適當的方法。