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掩膜制程

 

在石英基板上溅鍍铬/二氧化铬後在其上涂布一层光阻

 

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使用镭射激光平板印刷设备在光阻层表面形成所需的窗孔图形

 

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再进行显影形成光阻之窗孔图形

 

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在铬/二氧化铬层上使用湿式蚀刻装置进行蚀刻

 

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去除光阻後进行清洗

 

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测定暗黑层(铬/二氧化铬)或透空层(石英基板)的窗孔图形之重要尺寸

 

product05 8 

在光掩模上测定窗孔图形之精确位置

 product05 9

检验设计之窗孔图形以外之不良并进行修正

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透过清洗程序将小微尘颗粒去除

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为防止污染光罩窗孔图形,覆盖一层薄膜(pellicle

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