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Pellicle

制造掩膜之最后阶段为黏贴pellicle之工程。 
Pellicle为防止附着于mask表面之particlewafer曝光工程中输写成patternwafer上的角色。Mask pattern上有particleparticlefocusingwafer上,但有pellicle时,在pellicle表面附着之particle不会在wafer表面上focusingpattern。通常使用之pellicle1um厚之透明膜。