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光罩製程

Quartzsputtering Cr/CrO2後在其上coating resist

 product05 3

使用Laser lithography equipemnt,在PR layer表面形成pattern

 product05 4

進行Develop形成resistpattern

 product05 5

Cr/CrO2層上使用濕式蝕刻裝置進行蝕刻。

 product05 6

Strip Resist後進行cleaning

 product05 7

測定Dark (Cr/CrO2) patternspace (Quartz) patternCD(critical dimension)

product05 8 

Mask上測定patternposition accuracy

 product05 9

檢驗design pattern以外之defect並進行修正。

 product05 10

透過cleaning去除particle

 product05 11

為防止污染mask pattern,附蓋pellicle

 product05 12