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Pellicle

pllicle1

製造光罩之最後階段為黏貼pellicle之工程。
Pellicle為防止附著於mask表面之particle在wafer曝光工程中輸寫成pattern於wafer上的角色。Mask pattern上有particle時particle會focusing在wafer上,但有pellicle時,在pellicle表面附著之particle不會在wafer表面上focusing為pattern。通常使用之pellicle為1um厚之透明膜。