Develop Process

Develop工程是利用mask曝光部及非曝光部之resist溶解度的差异形成resist pattern的工程。Develop的方法有好几种,但在制造光罩时,常使用利用fan nozzle或binary nozzle之spin spray或puddle dispense等方法。
在各工程需考虑develop速度及develop uniformity等来选择适当的方法。