大型掩膜技术
Large Area Mask
MURA是指显示器亮度不均匀造成的现象，但如果掩膜本身已有MURA现象，则在TFT LCD上将造成严重的质量问题。因此避免在掩膜上产生MURA是一个极为重要的技术问题。在掩膜制程中会产生MURA问题，主要是在图形处理的制程及掩膜描绘的制程。本公司除了以制程能力提升来降低此一现象的产生外，在图形处理制程也投入大量研究，从根本的图形数据处理来避免掩膜上MURA的产生。
Large Area Mask
MURA是指显示器亮度不均匀造成的现象，但如果掩膜本身已有MURA现象，则在TFT LCD上将造成严重的质量问题。因此避免在掩膜上产生MURA是一个极为重要的技术问题。在掩膜制程中会产生MURA问题，主要是在图形处理的制程及掩膜描绘的制程。本公司除了以制程能力提升来降低此一现象的产生外，在图形处理制程也投入大量研究，从根本的图形数据处理来避免掩膜上MURA的产生。