掩膜制程

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在石英基板上溅鍍铬/二氧化铬後在其上涂布一层光阻

 

 

 

使用镭射激光平板印刷设备在光阻层表面形成所需的窗孔图形

 

 

 

再进行显影形成光阻之窗孔图形

 

 

 

在铬/二氧化铬层上使用湿式蚀刻装置进行蚀刻

 

 

 

去除光阻後进行清洗

 

 

 

测定暗黑层（铬/二氧化铬）或透空层（石英基板）的窗孔图形之重要尺寸

 

 

在光掩模上测定窗孔图形之精确位置

 

检验设计之窗孔图形以外之不良并进行修正

 

透过清洗程序将小微尘颗粒去除

 

为防止污染光罩窗孔图形，覆盖一层薄膜（pellicle）